پاورپوینت کامل و جامع با عنوان بررسی لایه نازک (Thin Film) در الکترونیک و روش های رشد آن در 39 اسلاید


                لایه نازک (Thin film) لایه ای از مواد است که ضخامتی بین کسری از نانومتر (تک لایه) تا چند میکرومتر دارد. سنتز کنترل شده ی مواد به عنوان لایه های نازک (فرایندی که به آن رسوب گفته می شود) یک گام اساسی برای بسیاری از کاربردها است. یک مثال آشنا آینه خانگی است که به طور معمول دارای یک روکش فلزی نازک در پشت یک صفحه شیشه ای برای ایجاد یک سطح بازتابنده است.   فهرست مطالب: تعریف لایه نازک اهمیت لایه نازک فرایند رسوب گذاری (Deposition) رسوب شیمیایی آبکاری رسوب محلول شیمیایی (CSD) یا رسوب به وسیله حمام شیمیایی (CBD) روش لانگمویر – بلودت روکش دورانی یا ریخته گری چرخشی روکش Dip رسوب بخار شیمیایی (CVD) CVD بهبود یافته با پلاسما (PECVD) رسوب لایه اتمی (ALD) و روش خواهرش رسوب لایه مولکولی (MLD) رسوب فیزیکی تبخیر حرارتی تبخیر پرتوی الکترونی اپیتاکسی پرتوی مولکولی (MBE) کند و پاش به پلاسمایی سیستم های رسوب لیزر پالسی رسوب قوس کاتدیک (arc-PVD) رسوب الکتروهیدرودینامیکی حالت های رشد اپیتاکسی اصطلاح هومواپیتاکسی کاربردها …

سایت کتاب دانشگاه همراه همیشگی شما تا رسیدن به هدف

0 دیدگاه

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *